发明专利已授权

一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置

📄 申请号：CN201811450009.7 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2018-11-30

公开号

CN109300831B

公开日

2021-03-23

申请人

南昌三盛半导体有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01L21_677

IPC 分类号

H01L21_677 , H01L21_683 , C23C14_35 ,

技术画像

所属领域

溅射镀膜磁控溅射技术真空镀膜设备基片传输装置溅射镀膜

应用场景

半导体制造, 光学镀膜, 平板显示制造, 太阳能电池制造, 真空镀膜加工

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摘要

本发明公开了一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置，包括立杆和连接头，所述立杆的下方固定有通气管，且通气管的下方安装有防护罩，所述防护罩的内表面安装有出气盘，所述滑座的上方安装有支撑杆，所述连接头的下方与支撑杆的上端相互连接，且连接头的外侧通过承重架与承托盘相互连接，所述立杆的上端从下往上依次从连接头、承托盘和调控盒的表面贯穿，所述立杆的下端通过通气管与出气盘为贯通连接。该磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置，在拾取基片时，拉杆带动活塞进行上下移动，起到了对基片进行散热的作用，并且当活塞向上移动时，防护罩内部的一瞬间的气体小于外界的气压，从而便于将基片吸出。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种农田酸化土壤的改良方法

当前第 / 件

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：28 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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