本发明涉及一种纳米复合涂层及其制备技术，具体地说是一种CrAlSiN纳米复合涂层的制备工艺。采用高功率脉冲与直流脉冲共溅射技术在金属或硬质合金基体上制备CrAlSiN纳米复合涂层。选用纯金属Cr、Al和Si（纯度均为99.99 wt.%）作为靶材，其中，高功率脉冲选用Cr靶，直流脉冲溅射选用Al靶和Si靶。镀膜前先通入Ar气，采用‑800 V偏压，对基片进行辉光清洗10~30 min。随后开启三个靶材，对基体和靶材表面进行轰击清洗，并逐渐降低偏压至‑30~100V。关闭Al靶和Si靶，沉积纯Cr过渡层10~40min。通入反应气体N2，并开启Al靶和Si靶，沉积CrAlSiN涂层120~360 min。本发明涉及的CrAlSiN纳米复合涂层综合性能好，制备工艺简单，成分可控，重复性好，容易工业化生产。
📄 2017105185173
📂 C23C14_35
👤 天津职业技术师范大学
📅 2017-06-30
一种纳米铂包覆金颗粒膜复合材料的制备方法，先在聚酰亚胺基体表面制备金‑钼合金膜，并使基体保持一定温度促使金原子在合金薄膜表面生长为金颗粒，然后在制备的金颗粒膜表面沉积铂薄膜即制得产品。本发明采用磁控溅射双靶共沉积制备金钼合金薄膜及基体原位加热技术，实现了无需模板制备出纳米金薄膜/金颗粒复合结构材料，进而在已获得的纳米金薄膜/金颗粒表面溅射沉积铂薄膜制备大比较面积、高性能纳米铂薄膜包覆金颗粒膜复合材料，较之纯铂薄膜比表面积增大20%以上。
📄 2015101647263
📂 C23C14_35
👤 河南科技大学
📅 2015-04-09
一种纳米金包覆银颗粒膜复合材料的制备方法，首先在聚酰亚胺基体表面制备银‑锆合金膜，并使基体保持一定温度以使银原子在合金膜表面生长为银颗粒，然后在制备的银‑锆合金膜表面纳米沉积金薄膜即制得产品。本发明采用磁控溅射双靶共沉积制备银合金薄膜及基体原位加热技术，实现了无需模板制备出纳米银薄膜/银颗粒复合结构材料，进而在已获得的纳米银薄膜/银颗粒复合结构表面溅射沉积金薄膜制备高性能、大比表面积纳米金薄膜包覆银颗粒膜复合材料，无需采用模板，成本低，绿色环保，易于在基体上无需模板制备出大面积、高性能纳米金薄膜包覆银颗粒膜复合材料，较之纯金薄膜比表面积可增大20%以上。
📄 2015101646858
📂 C23C14_35
👤 河南科技大学
📅 2015-04-09
本实用新型公开了一种低成本往复式磁控溅射镀膜生产线，包括能往复传输基材的带式输送线，所述带式输送线上设有若干能相互连通的腔室，各个腔室之间均设有闸板阀，所述腔室至少包括镀膜工艺腔室，所述镀膜工艺腔室内固定设置有靶材，所述靶材沿所述带式输送线的横向设置，形成阴极磁场的磁铁沿所述靶材横向排列，阴极磁场的磁力线顶端方向与基材传输方向平行。本实用新型使用后等离子体在靶材跑道径向的刻蚀在基片径向方向上均匀分布，消除了跑道深度梯度变化对薄膜均匀性的影响，且本方案还降低了大规模生产的设备投入成本。
📄 2022206247633
📂 C23C14_35
👤 南通理工学院
📅 2022-03-21
本发明公开了一种具有高硬度和高抗氧化性能的CrAlN/AlN纳米多层涂层及其制备方法，属于涂层制备技术领域。采用电弧离子镀和磁控溅射复合技术在金属或硬质合金基体上制备CrAlN/AlN纳米多层涂层。选用纯金属CrAl和Al作为靶材，通过控制CrAl靶电流和Al靶功率，调控涂层CrAlN层和AlN层调制周期。本发明制备的CrAlN/AlN纳米多层涂层组织结构致密，具有很高的硬度和抗高温氧化性能及耐蚀性能，并与基体之间结合良好。
📄 2020102340465
📂 C23C14_35
👤 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
📅 2020-03-30
本实用新型公开了一种可提高平面靶材利用率的装置，包括固定管，所述固定管的内顶部与内底部上均开设有滑槽，两个所述滑槽内均滑动连接有滑块，两个所述滑块之间共同固定连接有移动块，所述固定管内设置有用于对移动块进行移动的移动机构，所述移动块的侧壁上开设有放置槽，所述放置槽内设置有两个用于对靶材进行夹持的夹持机构，所述移动块内还开设有两个对称设置的腔体。本实用新型结构合理，通过设置移动机构，实现对靶材的位置进行调节，避免靶材采用固定式，消耗范围无法控制，导致消耗量增加，利用率较低，通过设置驱动机构以及夹持机构，实现对靶材进行有效的夹持，便于靶材的更换，提高装置实用性。
📄 2021230748873
📂 C23C14_35
👤 上海博译金属有限公司
📅 2021-12-09
本实用新型公开了一种低导磁率的实用型镍靶材，包括靶芯与靶座，所述靶芯底部设有基座，所述基座两侧壁均设有两个对称设置的插孔，所述靶座两侧壁均设有开口，所述开口内垂直设置有升降螺纹杆，所述升降螺纹杆外壁螺纹连接有升降螺母，所述升降螺母上滑动贯穿有两根与插孔对应的插杆，所述插杆通过复位机构与升降螺母连接，所述开口内设有与升降螺母配合的限制机构。本实用新型通过设置升降螺纹杆、升降螺母、插杆与插孔，能利用拖拽块使插杆端部带动防脱块与插孔分离，随即解除了靶芯与靶座的固定，能随着靶芯被消耗将靶芯移出靶座，从而为使用过程提供实用性，同时利用插孔与插杆活动式卡接固定，使装置具备一定便利性。
📄 2021230748869
📂 C23C14_35
👤 上海博译金属有限公司
📅 2021-12-09
本发明公开了一种用于高压氢环境中的薄膜应变片，包括基底、设于基底上表面上的过渡缓冲层、设于过渡缓冲层上表面上的绝缘层、设于绝缘层上表面上的功能层；基底采用316L不锈钢材料制成，过渡缓冲层为CrMo膜，绝缘层为AlN‑Al2O3双层膜。本发明具有高压氢环境中，薄膜应变片可以牢固地固定于试样上，相互之间连接呈无机质化，因而消除了零点漂移和蠕变，实现了温度自补偿，从而提高了应变片的灵敏度和测量结果的准确性的特点。
📄 2020112383895
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2020-11-09
本发明公开了一种磁控溅射反应设备换样片装置，包括取样长杆，所述装置还包括圆筒、样片基座及设于取样长杆前部的长杆端部，所述长杆端部包括长杆端头、电磁铁、伸缩机构及微动开关，所述电磁铁、伸缩机构及微动开关设于圆筒内，所述电磁铁设于长杆端头的后方，所述电磁铁后方装设有伸缩机构，所述伸缩机构的尾端伸缩接触微动开关，所述样片基座包括设有凹陷口的尾端，所述长杆端头在尾端的凹陷口进出。本发明运用磁铁吸力实现取样，并使用弹簧和微动开关实现长杆自动脱出，在缩短搬运的时间，且要避免样片在搬运过程中受到损伤，以提高生产效率和成品率，并有利于提高整台设备的密封性，保证了工艺环境的洁净度。
📄 2019105317190
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2019-06-19
本发明公开了一种用于煤制气环境中的溅射薄膜敏感元件，包括基底、设于基底上表面上的过渡缓冲层、设于过渡缓冲层上表面上的绝缘层、设于绝缘层上表面上的功能层、设于功能层上表面上的防护层；基底采用316L不锈钢材料制成，过渡缓冲层为Ni膜，绝缘层为SiO2膜，功能层为FeNiAl合金膜，防护层为AlOx膜。本发明在煤制气环境中，溅射薄膜敏感元件可以牢固地固定于试样上，相互之间连接呈无机质化，因而消除了零点漂移和蠕变，实现了温度自补偿，从而提高了溅射薄膜敏感元件的灵敏度和测量结果的准确性的特点。
📄 2020112375850
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2020-11-09
本发明涉及薄膜材料技术领域，为解决传统DLC薄膜与基体材料的结合强度较差、降低应力提高结合强度又会导致耐磨性能下降的问题，提供了一种DLC/CNx/MeN/CNx纳米多层膜，包括基体(1)、依次沉积于基体表面的金属过渡层(2)和纳米多层膜，所述纳米多层膜由若干纳米复合单元(3)组成，所述纳米复合单元由下至上依次为DLC层(4)，第一梯度CNx层(5)，金属氮化物层(6)和第二梯度CNx层(7)。本发明的纳米多层膜有效改善了传统沉积方法膜基结合力不高的问题，同时降低了内应力，并且有优良的耐磨性；制备方法步骤简单，工艺条件易于控制，制备过程安全无污染，成本低，易于实现产业化。
📄 2019106618918
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2019-07-22
本发明公开了一种实时间接测量溅射靶材温度装置，包括贴合设置在靶材铜底座上的导热固定装置及设置在导热固定装置上的温度传感器装置，所述导热固定装置包括上导热固定铜块及下导热固定铜块，所述上导热固定铜块及下导热固定铜块通过固定螺丝设置在靶材铜底座内侧位置；所述温度传感器装置包括温度传感器探头、与温度传感器探头相连的防水耐高温线缆及与防水耐高温线缆相连的显示器。本发明的有益效果是：该装置设计巧妙，结构合理，使用方便，应用本装置为样品进行磁控溅射镀膜，使镀膜过程更加安全，保障了实验人员的人身安全，保证了测量的薄膜与基体的结合力的稳定性与精确性，对薄膜的研究领域具有重要的意义。
📄 2019104734276
📂 C23C14_35
👤 浙江工业大学
📅 2019-05-31
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