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本发明公开了一种实时间接测量溅射靶材温度装置，包括贴合设置在靶材铜底座上的导热固定装置及设置在导热固定装置上的温度传感器装置，所述导热固定装置包括上导热固定铜块及下导热固定铜块，所述上导热固定铜块及下导热固定铜块通过固定螺丝设置在靶材铜底座内侧位置；所述温度传感器装置包括温度传感器探头、与温度传感器探头相连的防水耐高温线缆及与防水耐高温线缆相连的显示器。本发明的有益效果是：该装置设计巧妙，结构合理，使用方便，应用本装置为样品进行磁控溅射镀膜，使镀膜过程更加安全，保障了实验人员的人身安全，保证了测量的薄膜与基体的结合力的稳定性与精确性，对薄膜的研究领域具有重要的意义。

本发明公开了一种磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置，包括立杆和连接头，所述立杆的下方固定有通气管，且通气管的下方安装有防护罩，所述防护罩的内表面安装有出气盘，所述滑座的上方安装有支撑杆，所述连接头的下方与支撑杆的上端相互连接，且连接头的外侧通过承重架与承托盘相互连接，所述立杆的上端从下往上依次从连接头、承托盘和调控盒的表面贯穿，所述立杆的下端通过通气管与出气盘为贯通连接。该磁控溅射镀膜机用基片转移保护装置，在拾取基片时，拉杆带动活塞进行上下移动，起到了对基片进行散热的作用，并且当活塞向上移动时，防护罩内部的一瞬间的气体小于外界的气压，从而便于将基片吸出。

本申请涉及溅射靶材焊接技术领域，具体公开了一种溅射镀膜用铬靶材与铜背板的复合方法。其技术要点是：一种溅射镀膜用铬靶材与铜背板的复合方法，包括如下步骤：将镍基非晶带铺设在铬靶材和铜背板之间；将铬靶材和铜背板放入钎焊炉中，抽真空至5*10‑3Pa，进行钎焊；所述镍基非晶带的熔点为950℃；所述钎焊步骤为：于0.65h内均匀升温至500℃后，充入氩气，0.35h内均匀升温至800℃，并保持正压，再于1h内均匀升温至950℃，保温30min，随后于30min内升温至1062℃，保温2min，然后于28min内降温至950℃，最后于4h内均匀降至室温。采用本申请提供的复合绑定方法，得到的靶材组件不易脱靶，结合率高，外观缺陷小。

本发明公开了一种LOW‑E玻璃溅射镀膜生产线，涉及玻璃加工领域，包括溅射炉体，所述溅射炉体的炉腔内贯穿有接驳机构，所述接驳机构的两端均与对应的玻璃传动台适配构成生产线，所述接驳机构包括：基台组件，其台面上设有贯穿溅射炉体的炉腔的传动辊单元；接驳舟组件，其包括盛载单元，所述盛载单元通过连接构造与传动辊单元传动连接，所述盛载单元在移动过程中与玻璃板保持相对静止；周转组件，其包括将玻璃传动台上的玻璃板转载至盛载单元上的第一转载单元，其还包括将盛载单元上的溅射加工后的玻璃板转载至另一玻璃传动台的第二转载单元，本发明通过接驳机构实现玻璃板的运载，避免了玻璃板与驱动件直接接触，有利于避免出现玻璃面板刮花的情况。

本实用新型属于废气收集领域，涉及一种玻璃真空磁控溅射镀膜生产线用废气收集机构，本实用新型包括镀膜箱、管道、操作箱与葫芦型气罐，通过镀膜箱内对产品进行镀膜时产生的气体，由驱动杆的上下运动，带动连接杆与顶块做活塞运动，在方箱内产生负压时，抽出镀膜箱内废气，通过横管内降温装置的过滤首先让废气进行降温，有效的降低了废气的温度，让其废气降低了挥发的危险，降温后的废气在通过酸性过滤器与碱性过滤器时，让废气与产生化学反应，有效的过滤出废气中所带有的酸性物与碱性物，在化学反应完后进入方箱内的水时，水会吸附废气中物理上的脏物，这样排出的废气大大减少了危害程度。