发明专利 已授权

一种钯/二硒化钨肖特基晶体管的制备方法

📄 申请号:CN202311594680.X 📄 发布日:2026/06/23

著录项目信息

申请日
2023-11-28
公开号
CN117316773B
公开日
2024-02-13
申请人
济南大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

集成电路, 逻辑器件, 高频电子器件, 低功耗电子设备

摘要

本发明公开了一种钯/二硒化钨肖特基晶体管的制备方法,涉及集成电路制造技术领域。本发明采用电子束蒸发法实现Pd薄膜的构建,采用化学气相沉积法生长,并通过化学生长窗口调节,实现亚厘米级别的WSe2的制备,然后通过湿法转移,将WSe2转移至Pd薄膜上,使得WSe2与Pd形成范德华界面,实现肖特基接触,通过Pd接触构建的Pd/WSe2肖特基晶体管,其转移特性的开/关比提升了100倍,截止电流减小到10‑9 A,展现出更加优异的晶体管性能。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:57 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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