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发明专利
已授权
一种钯/二硒化钨肖特基晶体管的制备方法
📄 申请号:CN202311594680.X
📄 发布日:2026/06/23
著录项目信息
申请日
2023-11-28
公开号
CN117316773B
公开日
2024-02-13
申请人
济南大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L21_34
IPC 分类号
H01L21_34
,
H01L29_24
,
H01L29_872
,
技术画像
所属领域
半导体器件
半导体器件
二维材料
晶体管制造
应用场景
集成电路, 逻辑器件, 高频电子器件, 低功耗电子设备
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摘要
本发明公开了一种钯/二硒化钨肖特基晶体管的制备方法,涉及集成电路制造技术领域。本发明采用电子束蒸发法实现Pd薄膜的构建,采用化学气相沉积法生长,并通过化学生长窗口调节,实现亚厘米级别的WSe2的制备,然后通过湿法转移,将WSe2转移至Pd薄膜上,使得WSe2与Pd形成范德华界面,实现肖特基接触,通过Pd接触构建的Pd/WSe2肖特基晶体管,其转移特性的开/关比提升了100倍,截止电流减小到10‑9 A,展现出更加优异的晶体管性能。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种氧化铪无机纤维及其制备方法
当前第 / 件
一种纺织机械零配件生产用装置及其方法
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