发明专利已授权

一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置

📄 申请号：CN202010551570.5 📄 发布日：2026/01/14

著录项目信息

申请日

2020-06-17

公开号

CN111696881B

公开日

2023-12-26

申请人

山东新思航信息科技服务有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01L21_66

IPC 分类号

H01L21_66 , G03F7_42 ,

技术画像

所属领域

半导体制造工艺半导体制造工艺光刻胶溶解与显影晶圆检测技术

应用场景

半导体晶圆制造, 光刻工艺, 显影过程监控, 晶圆缺陷检测, 微电子设备

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摘要

本发明属于晶圆领域，尤其是一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置，针对目前市场上的硅晶圆光阻溶解过程观测装置使用不够方便，不便于进行溶解操作，现提出如下方案：一种硅晶圆光阻溶解过程观测装置，包括底座与溶解桶，所述底座的下端外表面固定安装有支架，所述支架的下端活动安装有滚轮，所述底座的上端固定安装有固定座，所述溶解桶放置在固定座的上端，所述底座的上端位于固定座的一侧的位置固定安装有安装座，所述安装座的上端活动连接有立柱。本发明中，通过滚轮上的减震结构是装置移动更加稳定，通过可转动的立柱能够方便观测装置的使用，并且通过可升降的夹具能够方便对晶圆进行光阻溶解操作。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20250909

?? 专利权的转移：

20231226

✅ 授权

20201020

?? 实质审查的生效：

20200922

📄 公开

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议价

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