发明专利 已授权

静态随机存取存储器及其制造方法

📄 申请号:CN201810086149.4 📄 发布日:2025/09/08

著录项目信息

申请日
2018-01-30
公开号
CN108109966A
公开日
2018-06-01
申请人
德淮半导体有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

数据中心, 消费电子, 计算机系统, 移动设备, 嵌入式系统

摘要

本公开涉及静态随机存取存储器及其制造方法。一种制造静态随机存取存储器的方法,其特征在于,包括:在基底上形成图案化的第一栅极部分,使得相邻的第一栅极部分之间具有第一间隔区域;在所述第一栅极部分之上以及所述第一间隔区域中沉积栅极材料;以及对所述栅极材料进行选择性刻蚀,从而形成第二栅极部分,其中所述栅极材料的一部分从所述第一间隔区域中去除,从而在所述第一栅极部分与所述第二栅极部分之间形成第二间隔区域,其中所述第一间隔区域的尺寸大于所述第二间隔区域的尺寸。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:126 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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