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摘 要:本实用新型公开了一种防二次腐蚀的刻蚀装置,涉及芯片加工技术领域,包括壳体,所述壳体顶端固定连接有两个气缸,所述气缸的伸缩端延伸至壳体内部固定连接有支架,所述支架底端四角处固定连接有缓冲弹簧,所述缓冲弹簧顶端固定连接有掩模。该一种防二次腐蚀的刻蚀装置由于模孔开设在掩模的底端,在气缸带动掩模向上移动并离开刻蚀池时,残留于模孔中的刻蚀液受重力的作用将直接滴入下方的刻蚀池中,从而防止出现刻蚀液因没有模孔的阻拦而扩散至芯片表面造成其表面二次腐蚀的情况,保证了芯片表面的刻蚀效果,搭配振动电机可以提升刻蚀液滴落的速度,配合缓冲弹簧可以对振动电机产生的力进行缓冲,防止整个刻蚀装置随着振动电机振动。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202322520761.7 | 专利名称: | 一种防二次腐蚀的刻蚀装置 |
申请日: | 2023-09-18 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L21/67搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 2200.0元 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |