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发明专利
已授权
晶圆键合中的退火装置及退火方法
📄 申请号:CN201711283285.4
📄 发布日:2025/09/08
著录项目信息
申请日
2017-12-07
公开号
CN108054087A
公开日
2018-05-18
申请人
德淮半导体有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L21_18
IPC 分类号
H01L21_18
,
H01L21_324
,
H01L21_67
,
技术画像
所属领域
晶圆键合
晶圆键合
退火工艺
半导体制造设备
应用场景
集成电路制造, 晶圆级封装, 三维集成, MEMS器件制造, 半导体器件制造
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摘要
本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种晶圆键合中的退火装置及退火方法。所述晶圆键合中的退火装置,包括加热盘;所述加热盘包括同轴设置的多个区域;多个区域相互独立加热且沿所述加热盘的中心向边缘分布,用以实现对晶圆键合界面从中心到边缘的逐步加热。本发明减少了晶圆键合界面中空洞的产生,提高了晶圆的键合强度。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
晶圆退火处理设备及退火处理方法
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