发明专利已授权

一种新型鳍式场效应晶体管及其制作方法

📄 申请号：CN201611159376.2 📄 发布日：2026/03/20

著录项目信息

申请日

2016-12-15

公开号

CN106653609B

公开日

2019-11-29

申请人

温岭腾科电子有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01L21_336

IPC 分类号

H01L21_336 , H01L21_308 , H01L21_266 , H01L29_06 , H01L29_10 , H01L29_78 ,

技术画像

所属领域

半导体器件半导体器件场效应晶体管集成电路制造工艺

应用场景

集成电路制造, 半导体芯片, 逻辑电路, 低功耗电子设备, 高性能计算

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摘要

本发明公开了一种新型鳍式场效应晶体管及其制作方法，本发明的新型鳍式场效应晶体管，包括：基底；位于所述基底上的鳍部，所述鳍部两端形成源区和漏区；横跨所述源区和漏区中间的鳍部上表面以及两侧的栅极结构，所述鳍部上表面呈凸齿结构，所述凸齿结构凸起部分为齿部，所述鳍部上表面两齿部之间存在迁移率增强区，所述源区以及漏区在齿部顶端无掺杂，所述栅极结构嵌入所述鳍部的凸齿结构内，本发明可提高晶体管驱动电流，改善晶体管性能。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20191129

✅ 授权

20191126

⏳ 专利申请权的转移：

20190118

⏳ 专利申请权的转移：

20170606

?? 实质审查的生效：

20170510

📄 公开

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：68 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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