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| 专利/申请号： | CN202011388511.7 | 专利名称： | 衬底浓度确定方法、装置、计算机设备及可读存储介质 |
| 申请日： | 2020-12-01 | 申请/专利权人 | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | H01L21/66 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2021-02-12 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN112366148A | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 4 | 所属领域： | 计算机硬件专利转让搜索 |
应用场景：半导体晶圆制造中的化学机械抛光过程监测；通过实时检测衬底表面浓度优化抛光参数
摘 要：本申请提供一种衬底浓度确定方法、装置、计算机设备及可读存储介质，涉及半导体制程技术领域。本申请通过获取不同衬底掺杂浓度的待测芯片组各自在电容相同的测试键处量测到的电容量测值，并针对每个待测芯片组，根据该待测芯片组内具有相同衬底掺杂浓度的多个待测芯片各自的电容量测值，计算该待测芯片组的电容量测差异度，而后根据不同衬底掺杂浓度的待测芯片组各自的电容量测差异度，确定待测芯片的衬底掺杂浓度与电容量测差异度之间的特性对应关系，从而根据特性对应关系确定出待测芯片的与最小电容量测差异度对应的最佳衬底掺杂浓度，以通过最佳衬底掺杂浓度最大幅度地降低对电气特性量测结果的影响，提升电气特性量测精准度及稳定性。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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