发明专利已授权

鳍式场效应管及其制作方法

Name: 鳍式场效应管及其制作方法
Brand: 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
SKU: 2020116228475
Availability: InStock

📄 申请号：CN202011622847.5 📄 发布日：2026/06/29

著录项目信息

申请日

2020-12-31

公开号

CN112802898B

公开日

2023-05-23

申请人

泉芯集成电路制造(济南)有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01L29_78

IPC 分类号

H01L29_78 , H01L29_423 , H01L21_336 ,

技术画像

所属领域

半导体器件半导体器件集成电路制造场效应晶体管

应用场景

集成电路, 微处理器, 存储器, 移动终端, 高性能计算

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摘要

本发明公开了一种鳍式场效应管输入输出器件及其制作方法，所述鳍式场效应管输入输出器件包括：半导体衬底，具有第一表面，第一表面包括多个器件区；位于器件区表面上的多个鳍形结构；同一器件区表面上的鳍形结构的掺杂浓度相同；位于半导体衬底具有所述鳍形结构一侧表面的浅沟道隔离层，浅沟道隔离层的厚度低于鳍形结构的高度，浅沟道隔离层上方的鳍形结构表面上具有预设厚度的栅极介电层；设置在栅极介电层表面的栅极，栅极与器件区一一对应设置，所述栅极相互绝缘；至少两个所述栅极的金属功函数不同，和/或，至少两个所述器件区表面上的所述鳍形结构的掺杂浓度不同。本技术方案为鳍式场效应管输入输出器件具有多种阈值电压的设计。

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这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN112802898B

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该专利的转让价格是多少？

当前标价为议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20230523

✅ 授权

20210601

?? 实质审查的生效：

20210514

📄 公开

一种调整组件和机台

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：48 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

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📊 出价记录 (3条)

王**¥-10万

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