实用新型已授权

一种便于维护的真空高效加热装置

📄 申请号：CN202221448106.4 📄 发布日：2026/06/05

著录项目信息

申请日

2022-06-11

公开号

CN217719514U

公开日

2022-11-01

申请人

德兴市意发功率半导体有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

H01L21_67

IPC 分类号

H01L21_67

技术画像

所属领域

加热装置真空加热设备工业炉技术真空热处理技术加热装置

应用场景

真空干燥, 真空热处理, 材料加工, 电子元器件制造, 工业烘烤

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摘要

本实用新型公开了一种便于维护的真空高效加热装置，其包括：真空箱体、加热管、接线端子、第一密封圈、第二密封圈和托板，所述加热管竖向设置在真空箱体中，所述托板可升降地设置在加热管下方，所述接线端子包括第一定位套和定位柱，所述第一定位套设置在加热管顶部，所述真空箱体顶部设置有密封板，所述密封板上设置有与加热管一一对应的定位孔，所述定位柱同心设置在第一定位套顶部并延伸至定位孔中，所述第一密封圈设置在第一定位套顶面，所述第二密封圈设置在定位柱外圆上。本实用新型所述的便于维护的真空高效加热装置，通过第一密封圈和第二密封圈进行双重密封，并利用托板的上升进行加热管的定位，拆装便利。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种半导体高效蒸发台

当前第 / 件

一种便于装夹的晶片甩干装置

同领域国内专利 · IPC: (H01L21_67)

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：116 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 已报项目

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