发明专利 已授权

一种晶圆加工处理装置

📄 申请号:CN202411439211.5 📄 发布日:2026/06/04

著录项目信息

申请日
2024-10-15
公开号
CN118943062B
公开日
2025-07-15
申请人
江苏丰泓半导体科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

集成电路制造, 半导体芯片生产, 晶圆代工, 微电子制造, 半导体封装测试

摘要

本发明公开的一种晶圆加工处理装置,属于晶圆加工技术领域,包括用于对晶圆进行腐蚀的腐蚀箱、用于清洁的清洁箱以及对清洁后的晶圆进行干燥的干燥组件和固定组件,所述固定组件分别活动设于腐蚀箱、清洁箱以及干燥组件内,所述清洁箱和干燥组件内均安装有连接组件,所述干燥组件外侧壁和清洁箱外侧壁连接有安装板,所述安装板上安装有驱动组件,所述驱动组件设于清洁箱和干燥组件之间,所述驱动组件的输出端与腐蚀箱相连,所述驱动组件上安装有驱动杆,所述驱动杆的两端分别与清洁箱内的连接组件和干燥组件内的连接组件相连。能够对晶圆进行均匀腐蚀,在腐蚀的同时还能对晶圆进行高效的清洁和快速的烘干处理。

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这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN118943062B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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