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摘 要:本实用新型涉及半导体技术领域,尤其为一种硅晶圆片湿法清洗机,包括主体、转动吸盘、外环和喷头结构,所述主体内侧固定连接有分隔板,所述分隔板的表面开设有通口,所述分隔板的上端面开设有流道,所述流道的内侧连通有开口,所述主体的内侧固定连接有托架,所述托架的上侧承接有液箱,所述外环的内壁与分隔板的下侧均固定连接有吸雾环,一组所述吸雾环之间连通有流通管,所述流通管上安装有抽风器,所述主体的上侧内壁设置有清理模块,所述清理模块包括轨条,所述轨条的上端面均与主体的内壁固定连接,通过设置的吸雾环、流通管、分隔板和清理模块等结构实现了硅晶圆片湿法清洗机可以对酸性溶液挥发产生的酸雾进行处理的能力。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202321634266.2 | 专利名称: | 一种硅晶圆片湿法清洗机 |
申请日: | 2023-06-26 | 申请/专利权人 | 江苏迈睿科半导体科技有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 江苏省南通市如皋市丁堰镇兴堰路8号15#B栋厂房 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L21/67搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 2023-12-15 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN220189570U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |