实用新型已授权

一种硅晶圆片湿法清洗机

Name: 一种硅晶圆片湿法清洗机
Brand: 江苏迈睿科半导体科技有限公司
SKU: 2023216342662
Availability: InStock

📄 申请号：CN202321634266.2 📄 发布日：2026/05/12

著录项目信息

申请日

2023-06-26

公开号

CN220189570U

公开日

2023-12-15

申请人

江苏迈睿科半导体科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

H01L21_67

IPC 分类号

H01L21_67 , B08B3_02 , B08B3_08 , B08B5_04 , B08B1_00 , B08B13_00 ,

技术画像

所属领域

半导体清洗设备半导体清洗设备湿法清洗工艺晶圆制造设备

应用场景

半导体制造, 晶圆加工, 集成电路制造, 芯片生产

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摘要

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其为一种硅晶圆片湿法清洗机，包括主体、转动吸盘、外环和喷头结构，所述主体内侧固定连接有分隔板，所述分隔板的表面开设有通口，所述分隔板的上端面开设有流道，所述流道的内侧连通有开口，所述主体的内侧固定连接有托架，所述托架的上侧承接有液箱，所述外环的内壁与分隔板的下侧均固定连接有吸雾环，一组所述吸雾环之间连通有流通管，所述流通管上安装有抽风器，所述主体的上侧内壁设置有清理模块，所述清理模块包括轨条，所述轨条的上端面均与主体的内壁固定连接，通过设置的吸雾环、流通管、分隔板和清理模块等结构实现了硅晶圆片湿法清洗机可以对酸性溶液挥发产生的酸雾进行处理的能力。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN220189570U

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该专利的转让价格是多少？

当前标价为议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20231215

✅ 授权

一种空气净化装置

当前第 / 件

一种节能水流冲刷的单腔腐蚀清洗设备

同领域国内专利 · IPC: (H01L21_67)

H01L21_02 H01L21_027 H01L21_04 H01L21_18 H01L21_20 H01L21_208 H01L21_28 H01L21_288 H01L21_302 H01L21_304 H01L21_306 H01L21_3065 H01L21_311 H01L21_324 H01L21_329 H01L21_331 H01L21_335 H01L21_336 H01L21_34 H01L21_368 H01L21_48 H01L21_50 H01L21_54 H01L21_56 H01L21_60 H01L21_603 H01L21_66 H01L21_67 H01L21_673 H01L21_677 H01L21_68 H01L21_683 H01L21_687 H01L21_762 H01L21_768 H01L21_78 H01L21_82 H01L21_8238 H01L21_98 覆盖39个领域

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