发明专利 已授权

一种晶圆流片生产用清洗装置

📄 申请号:CN201811060258.5 📄 发布日:2025/11/16

著录项目信息

申请日
2018-09-12
公开号
CN109087878A
公开日
2018-12-25
申请人
江苏英锐半导体有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

晶圆制造, 半导体前道工艺, 芯片生产, 集成电路制造, 微电子器件加工

摘要

本发明涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域,特别是涉及一种晶圆流片生产用清洗装置,其可方便对酒精进行使用,提高使用性;同时方便对清洗后掉落的脏物进行清理,降低劳动程度;且可无需手按晶圆流片进行固定,使清洗刷和清洗棉球能同时进行使用,提高清洗效率,增强使用效果;包括工作台、放置盒、放置架、清洗刷和多组清洗棉球;还包括按压泵,按压泵输出端位于放置架正上方;还包括盛放盒和支块,盛放盒顶端设置有盛放槽;还包括前支撑件和后支撑件,放置架包括左调节件、左固定件、左转动轴、右调节件、右固定件和右转动轴,左转动轴和右转动轴分别插入至左连接槽和右连接槽内部。

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这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN109087878A

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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