实用新型 已授权

一种二维沟槽型高压SOI-LIGBT结构

📄 申请号:CN202022977172.8 📄 发布日:2026/02/04

著录项目信息

申请日
2020-12-11
公开号
CN213988866U
公开日
2021-08-17
申请人
张家港意发功率半导体有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

电源管理, 新能源汽车, 工业控制, 智能电网, 功率集成电路

摘要

本实用新型公开了一种二维沟槽型高压SOI‑LIGBT结构,包括衬底衬底的上端设有结构本体,结构本体的下端开设有凹槽,衬底的上端齿牙,齿牙的外侧插接于凹槽内,衬底的外壁设有弹性层,弹性层的外侧设有防腐层,防腐层的外侧设有耐磨层。该结构设有多个防护层可以对SOI‑LIGBT结构进行充分的保护;通过齿牙插入到凹槽中,在采用粘胶进行固定,使得衬底与结构本体之间的连接较为紧密。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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议价
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