实用新型 已授权

一种光刻胶刻蚀装置

📄 申请号:CN202322792148.0 📄 发布日:2025/12/18

著录项目信息

申请日
2023-10-18
公开号
CN221447103U
公开日
2024-07-30
申请人
住晶新材料科技(烟台)有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体芯片制造, 集成电路制造, 平板显示制造, MEMS制造, 光伏电池制造

摘要

本实用新型公开了一种光刻胶刻蚀装置,属于光刻胶刻蚀领域,一种光刻胶刻蚀装置,包括刻蚀壳体,刻蚀壳体内部靠近上端的位置处和靠近下端的位置处分别固定有第一隔层与第二隔层,第一隔层的内部固定有多个固定槽,固定槽的内部固定有第三气管,它可以实现使限位滑块推动限位滑板,从而使载物盘与光刻胶晶片板滑出固定槽内部完成下料,可以避免在下料过程中可能出现的损坏问题,使下料更加便捷和安全、提高产品生产安全和效率,此外还能有效地避免在人员装配光刻胶晶片板时可能出现的倾斜,确保光刻胶晶片板水平按压到固定槽内,提高固定成功率,可以降低生产成本和避免光刻胶晶片板不必要的损坏。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:107 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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