摘要
本发明提供了一种金属互连结构的制备方法,其包括有提供具有互连线的下方介质层;在下方介质层上依次形成富含氮的蚀刻终止检测层、多孔层间介质层、低K缓冲层、金属硬掩模层;在所述金属硬掩模层上形成具有开口图案的光刻胶层,并且开口的截面的宽度大于互连线的截面宽度;对金属硬掩模层和低K缓冲层进行刻蚀,形成开口结构;以开口结构为掩模对多孔层间介质层进行飞秒激光刻蚀;通过检测,当刻蚀到所述富含氮的蚀刻终止检测层时,采用第三刻蚀,并在刻蚀过程中通入氢气还原气体;在暴露出下方的所述互连线之后,持续通入氢气并对下方介质层进一步的过刻蚀,形成开口结构;在开口结构中依次形成阻挡层、晶种层和金属层,形成金属互连结构。