实用新型 已授权

一种集成光电子器件制造用蚀刻装置

📄 申请号:CN202320783531.7 📄 发布日:2026/09/04

著录项目信息

申请日
2023-04-11
公开号
CN219936999U
公开日
2023-10-31
申请人
泰州市大洋数控设备有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

集成光电子器件制造, 光子集成芯片制造, 半导体晶圆加工, 光通信器件制造, 化合物半导体器件制造

摘要

本实用新型涉及蚀刻机技术领域,具体为一种集成光电子器件制造用蚀刻装置,包括底板,所述底板的底面四角固定连接有四个支撑腿,所述底板的顶面上固定连接有挡板,所述挡板上对称设置有两个固定装置,所述固定装置包括活动板、弹簧、连接杆、夹紧板、胶布、刮板,所述挡板侧面开设有内腔,所述活动板滑动连接在内腔中,所述弹簧一端固定连接在挡板的内腔内壁上。通过设置固定装置,利用弹簧形变产生的弹力挤压活动板,从而推动夹紧板始终将集成光电子器件夹紧,解决了现有蚀刻机在进行作业时,集成光电器件在蚀刻过程中容易受蚀刻液冲击发生偏移,导致蚀刻部位不准确,影响蚀刻品质的问题。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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议价
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