发明专利 已授权

一种微通孔Cu基CVD金刚石热沉片的制备方法

📄 申请号:CN201910964080.5 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2019-10-11
申请人
陕西科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

大功率激光器散热, 微波器件散热, 芯片散热, 电子封装, 光通信器件散热

摘要

本发明公开了一种微通孔Cu基CVD金刚石热沉片及其制备方法,从下至上依次包括Cu基底、金属过渡层和CVD金刚石薄膜,Cu基底上阵列分布有直径0.3~0.5mm,间距2~3mm的微通孔,金属过渡层的表面静电组装金刚石纳米颗粒。本发明散热效果优于Ag、Cu、Al等传统热沉片,提高了金刚石薄膜和Cu金属基底之间的粘附性,以及金刚石的形核密度;微通道Cu基金刚石热沉片散热性能更优。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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