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发明专利
已授权
一种微通孔Cu基CVD金刚石热沉片的制备方法
📄 申请号:CN201910964080.5
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2019-10-11
申请人
陕西科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L23_373
IPC 分类号
H01L23_373
,
C23C28_04
,
C23C14_24
,
C23C14_06
,
C23C16_27
,
C23C16_02
,
B81C1_00
,
技术画像
所属领域
CVD金刚石
化学气相沉积
金刚石材料
热管理材料
CVD金刚石
应用场景
大功率激光器散热, 微波器件散热, 芯片散热, 电子封装, 光通信器件散热
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摘要
本发明公开了一种微通孔Cu基CVD金刚石热沉片及其制备方法,从下至上依次包括Cu基底、金属过渡层和CVD金刚石薄膜,Cu基底上阵列分布有直径0.3~0.5mm,间距2~3mm的微通孔,金属过渡层的表面静电组装金刚石纳米颗粒。本发明散热效果优于Ag、Cu、Al等传统热沉片,提高了金刚石薄膜和Cu金属基底之间的粘附性,以及金刚石的形核密度;微通道Cu基金刚石热沉片散热性能更优。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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