发明专利 已授权

一种基于改进视觉注意机制的磁片瑕疵检测方法

📄 申请号:CN202211722655.0 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2022-12-30
公开号
CN115908399B
公开日
2025-10-03
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

工业自动化, 智能制造, 磁片生产, 表面缺陷检测, 质量检测

摘要

本发明公开一种基于改进视觉注意机制的磁片瑕疵检测方法,包括如下步骤:获取待检测磁片图像,进行预处理;提取图像的亮度、朝向、边缘初级特征:基于亮度、朝向、边缘特征图像进行多尺度采样,构建多尺度金字塔;采取中央—周边差采样方式获取亮度、朝向、边缘特征对比映射图;基于亮度、朝向、边缘特征对比映射图归一化处理后合并为子显著图;基于亮度、朝向、边缘子显著图构建亮度、朝向、边缘显著图;基于亮度、朝向、边缘显著图归一化操作,线性相加得全局总显著图;基于全局总显著图检测磁片瑕疵区域。本发明提出了一种基于亮度、朝向、边缘三特征获取磁片瑕疵区域的方法,相较于传统ITTI算法对低对比度瑕疵目标检测适应性更高。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:17 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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