发明专利 已授权

一种基于Nystrom谱聚类的超像素抠图方法

📄 申请号:CN202110434415.X 📄 发布日:2026/07/08

著录项目信息

申请日
2021-04-22
公开号
CN113298821B
公开日
2025-05-09
申请人
江苏大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

图像编辑, 智能抠图, 视频前景提取, 人像分割, 美颜修图

摘要

本发明公开了一种基于Nystrom谱聚类的超像素抠图方法,针对传统的谱聚类超像素分割方法计算复杂度过高,不适合大尺寸图像处理的问题,利用Nystrom近似技术改进谱聚类,提高超像素分割的效率和质量。本发明首先在待分割图像上随机抽样,选取少量像素点样本;然后计算样本相似性矩阵,并对矩阵归一化;接着利用Nystrom近似技术,计算Laplacian矩阵的近似正交特征向量;再使用k‑means算法对特征空间中的代表点聚类,生成多个超像素;最后根据目标物体的轮廓,通过超像素分离前景目标与背景。本发明为Nystrom谱聚类设计了新的特征求解方法,使所得的近似特征向量满足正交条件,用于产生贴合物体形状的超像素。本发明可以降低超像素分割的计算复杂度,实现更高效、更精确的图像抠图。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:70 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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