实用新型 已授权

一种Si衬底-GAM外延的IGBT半导体器件

📄 申请号:CN202120214329.3 📄 发布日:2026/06/05

著录项目信息

申请日
2021-01-26
公开号
CN214313186U
公开日
2021-09-28
申请人
德兴市意发功率半导体有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

新能源汽车, 储能系统, 工业自动化, 智能电网, 光伏逆变器

摘要

本实用新型公开一种Si衬底‑GAM外延的IGBT半导体器件,包括上盖板和半导体固定槽,所述上盖板表面设置有半导体固定槽,在上盖板的底端设置有散热层,在散热层的前端设置有散热网,散热网的中间设置有冷却液加注口,当冷却液从加注口加入后,将半导体安装到半导体固定槽内部,通过底座的四个螺栓固定孔将Si衬底‑GAM外延的IGBT半导体器件安装到位后,半导体产生的大量热量通过底端的金属制成散热层吸热,在散热层的内部散热液快速六流动过程中通过散热网与空气中的冷空气热量加快交换,提升的半导体的散热速度,提升半导体工作性能,相比于传统半导体器件,新型Si衬底‑GAM外延的IGBT半导体器件散热效率更加高效,适用范围更广。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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