发明专利 已授权

一种基于硅通孔的高品质三维电感器及其制备工艺

📄 申请号:CN201610962996.3 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2016-11-04
公开号
CN107068649B
公开日
2019-10-22
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

集成电路, 射频通信, 电子设备

摘要

本发明公开一种基于硅通孔的高品质三维电感器及其制备工艺。本发明由多个电感元件单元构成,输入输出端口位于金属层和重新布局层;电感元件单元包括位于金属层、一个圆环状硅通孔阵列、重新布局层。圆环状硅通孔阵列上设有内、外圈硅通孔阵列,内圈和外圈上各硅通孔按照设计要求进行金属层、重新布局层的连接。本发明利用bosch工艺在硅基底挖空槽,减小硅基底损耗。本发明运用金属线连接圆环内外圈中的硅通孔阵列,相较与传统硅通孔构造的电感器具有较大的电感值,同时充分利用同圆环内圈或外圈中相邻硅通孔的电流流向都相同,来增强电感值,并且挖出圆环内部硅基底以减少损耗,此外还大大的减少了片上的占用面积。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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