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发明专利
已授权
基于光场EPI傅里叶变换的折射特征检测方法
📄 申请号:CN202010301723.0
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2020-04-16
公开号
CN111583191B
公开日
2022-02-22
申请人
西安理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
G06T7_00
IPC 分类号
G06T7_00
,
G06T7_10
,
G06T11_60
,
G02B27_00
,
技术画像
所属领域
光场成像
光场成像
图像处理
计算摄像
应用场景
工业检测, 光学元件检测, 透明物体识别, 机器视觉, 质量控制
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摘要
本发明基于光场EPI傅里叶变换的折射特征检测方法,具体按照以下步骤实施:步骤1、对光场原始图像进行解码得到四维参数化矩阵L[s,t,u,v];步骤2、利用四维参数化矩阵L[s,t,u,v]提取得到多个子孔径图像,并将所有的子孔径图像处理得到多个光场水平EPI图像;步骤3、将每个光场水平EPI图像划分为多等份图像,对每等份图像依次进行傅里叶变换、频谱中心化操作得到每等份图像对应的频域图像;步骤4、对每个光场水平EPI图像对应的所有等份频域图像依次进行检测分析确定频域图像上是否存在折射特征,进而确定光场原始图像上的折射区域。本发明基于光场EPI傅里叶变换的折射特征检测方法,能够精确检测出折射特征。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20220222
✅ 授权
20200918
?? 实质审查的生效 :
20200825
📄 公开
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