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| 专利/申请号: | CN201910227594.2 | 专利名称: | 一种Si2Te3/Si2Te3@Si纳米线异质结及其制备方法 | 
| 申请日: | 2019-03-25 | 申请/专利权人 | |
| 专利类型: | 发明 | 地址: | |
| 专利状态: | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号: | H01L31/0336 分类检索 | 
| 公开/公告日: | 转让价格: | 【平台担保交易】 | |
| 公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 | |
| 浏览量: | 7 | 所属领域: | 半导体材料 纳米技术 热电材料专利转让搜索 | 
应用场景:热电器件制造;能源转换与回收;红外探测与成像
摘 要:本发明涉及纳米材料领域,具体涉及一种Si2Te3/Si2Te3@Si纳米线异质结及其制备方法。本发明给出的Si2Te3/Si2Te3@Si纳米线异质结中,位于顶端Si2Te3纳米圆锥长度为10um;主干Si2Te3/Si纳米线直径为300nm;长度为50um,制备方法为:将碲粉和硅粉置入陶瓷坩埚中,将陶瓷坩埚放入石英管炉中,再将含有金颗粒的二氧化硅/硅衬底放置在石英管炉内下游地方,将石英管炉抽真空至<0.1mTorr,并用氮气冲洗,直至将空气排除干净,再调节石英管炉中的真空度和载气流量,并将炉在20℃min‑1下加热至850℃,并保持3‑5分钟,最后将衬底迅速冷却至室温,即可制备出Si2Te3/Si2Te3@Si纳米线异质结。本发明制备所得的Si2Te3/Si2Te3@Si纳米线异质结兼具了Si2Te3纳米线特性和Si纳米线特性,且制备工艺简单可控,重复性好。
| 交易方 | 企业 | 个人 | 
| 买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) | 
| 专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
| 专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) | 
| 解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
| 专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) | 
| 日期 | 法律信息 | 备注 | 
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 | 
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