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发明专利
已授权
一种碲硒砷镉化合物、靶材及其制备方法
📄 申请号:CN202111429740.3
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2021-11-29
公开号
CN114014663B
公开日
2023-01-31
申请人
沈阳鸿晟恒业科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C04B35_547
IPC 分类号
C04B35_547
,
C04B35_622
,
C04B35_645
,
C23C14_06
,
技术画像
所属领域
半导体材料
半导体材料
靶材
化合物半导体
应用场景
红外探测器, 光电器件, 半导体薄膜制备, 光电材料
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摘要
本发明公开了一种碲硒砷镉化合物/靶材及制备方法,由摩尔比为(60‑90):(0.999‑39.99):(0.001~0.01)的碲化镉颗粒、碲硒镉颗粒和砷化镉颗粒研磨成粉、混匀,将混匀的物料装入石墨坩埚中,或者将混匀的物料放入模具中室温压片成靶材坯,压片成形的靶材坯装入石墨治具内,石墨治具放入真空烧结炉内,在真空烧结炉内压实,真空状态加热烧结,自然降温至室温,打开真空烧结炉即得到碲硒砷镉化合物/靶材。上述制备方法能够适应市场规模化生产需求,工序简单、环境友好。制备出的碲硒砷镉化合物结晶度好,制备出的碲硒砷镉靶材相对密度高于90%(晶粒尺寸小于300nm)。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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