发明专利 已授权

一种掺杂氧离子的高熵陶瓷及制备方法

📄 申请号:CN202211108014.6 📄 发布日:2026/09/09

著录项目信息

申请日
2022-09-13
公开号
CN115403385B
公开日
2023-04-21
申请人
燕山大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

高温结构材料, 热障涂层, 耐磨材料, 耐腐蚀材料

摘要

本发明提供了一种掺杂氧离子的高熵陶瓷及制备方法,属于新材料及高熵陶瓷制备技术领域。本发明通过机械合金化及烧结过程将TiO2与过渡族金属及其共价键化合物(包括碳化物、氮化物或碳氮化物)作为共同组元,使烧结后获得的过渡族金属共价键碳化物、氮化物高熵陶瓷块体材料(高熵陶瓷)的晶体结构中阴离子点位含有氧离子,获得的掺杂氧离子的非化学计量比高熵陶瓷具有面心立方的单相、单一晶体结构。这种在阴离子点位分布大量氧离子的耐辐射、耐腐蚀、高硬度强度的高熵陶瓷新材料,在催化、储能及特殊功能材料器件等方面有极大的应用空间。

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图2
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