发明专利 已授权

一种改善反向恢复特性的超结MOSFET

📄 申请号:CN202010994816.6 📄 发布日:2025/12/10

著录项目信息

申请日
2020-09-21
公开号
CN111969062A
公开日
2020-11-20
申请人
电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

开关电源, 光伏逆变器, 新能源汽车电驱, 工业电源, 功率因数校正

摘要

本发明涉及功率半导体技术,涉及一种改善反向恢复特性的超结MOSFET。相对于传统的MOSFET,本发明在P型漂移区和N型漂移区中间引入绝缘介质,同时将P型阱区分隔为位于N型漂移区上的第一P型阱区和位于P型漂移区上的第二P型阱区两个部分。第一P型阱区与源极金属形成肖特基接触。在第二P型阱区内引入一个平面N型MOSFET,器件的N+源区通过一个浮空金属连接到平面N型MOSFET的漏极。N型MOSFET的源极作为本发明器件的源极,而其栅极与本发明器件栅极相连接。器件反向导通时,由于肖特基二极管处于反偏状态,因此与其相连接的N型漂移区一侧体二极管不导通,只有P型漂移区一侧体二极管导通,因此反向导通时漂移区内存储的电荷减少。本发明改善了器件反向恢复特性。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20210604
✅ 授权
20201208
?? 实质审查的生效 :
20201120
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:189 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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