发明专利 已授权

一种光栅结构的硅基全硅表面吸收探测器及其制备方法

📄 申请号:CN202010997856.6 📄 发布日:2026/06/22

著录项目信息

申请日
2020-09-21
公开号
CN112201707A
公开日
2021-01-08
申请人
三明学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

光通信, 光学传感, 光探测, 激光雷达, 光谱分析

摘要

本发明提供一种光栅结构的硅基全硅表面吸收探测器,包括:衬底层,所述衬底层是SOI;硅光波导层,形成于所述衬底层上;光栅层,形成与所述衬底层上,并与所述硅光波导层耦合连接;其中,所述光栅层包括本征区以及位于所述本征区两侧的P型区和N型区;电极,包括阳极和阴极;其中,所述阳极设置于所述N型区,所述阴极设置于所述P型区。本发明通过表面光栅结构较直波导结构增加了表面区域,从而有效增加了吸收面积,进而提高了响应度;光栅结构形成谐振腔,使光能量较好的限制在光栅结构内部,被多次吸收。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20220624
✅ 授权
20210126
?? 实质审查的生效 :
20210108
📄 公开

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