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一种光栅结构的硅基全硅表面吸收探测器及其制备方法

来源:https://www.shizifang.com  发布日:2024/12/02

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专利/申请号: CN202010997856.6 复制 专利名称: 一种光栅结构的硅基全硅表面吸收探测器及其制备方法 复制
申请日: 2020-09-21 申请/专利权人
专利类型: 发明 地址:
专利状态: 已下证 查询审查信息 分类号: H01L31/0232分类检索   其他专利转让搜索
公开/公告日: 转让价格: 面议 【平台担保交易】
公开/公告号: 交易状态: 等待洽谈   搜索相似专利

摘     要:本发明提供一种光栅结构的硅基全硅表面吸收探测器,包括:衬底层,所述衬底层是SOI;硅光波导层,形成于所述衬底层上;光栅层,形成与所述衬底层上,并与所述硅光波导层耦合连接;其中,所述光栅层包括本征区以及位于所述本征区两侧的P型区和N型区;电极,包括阳极和阴极;其中,所述阳极设置于所述N型区,所述阴极设置于所述P型区。本发明通过表面光栅结构较直波导结构增加了表面区域,从而有效增加了吸收面积,进而提高了响应度;光栅结构形成谐振腔,使光能量较好的限制在光栅结构内部,被多次吸收。

专利交易流程

  • 1. 买家选定所需专利,确认国家手续办理方,下单,确认交易合同;
    2. 卖家确认专利可交易;
    3. 买家支付交易款项到平台;
    4. 买卖双方签订《专利转让委托书》、《转让协议》、《解除代理委托书》各一式两份并提交给办理国家手续方;
    5. 办理国家手续方提交办理官方手续,国家知识产权局1个月左右下发《著录项目变更手续合格通知书》;
    6. 买家确认收到《专利证书》、《著录项目变更手续合格通知书》;
    7. 平台把交易款项支付给卖家,至此专利转让合同完成。

专利转让材料

  • 交易方 企业 个人
    买家 营业执照副本复印件(需盖公章) 身份证复印件(签字)
    专利转让委托书(需盖公章)一式两份 专利转让委托书(需签字)一式两份
    专利转让协议(需盖公章)一式两份 专利转让协议(需签字)一式两份
    卖家 营业执照副本复印件(需盖公章) 身份证复印件(需申请人签字)
    解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请)
    专利转让协议(需盖公章)一式两份 专利转让协议(需签字)一式两份
    专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件
    专利证原件(若授权下证) 专利证原件(若授权下证)

专利法律信息

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