发明专利 已授权

一种氧掺杂二硒化钯材料、制备方法及其在制备光电探测器中的应用

📄 申请号:CN202311574256.9 📄 发布日:2026/11/05

著录项目信息

申请日
2023-11-23
公开号
CN117613140B
公开日
2024-06-28
申请人
济南大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光电探测器, 光通信, 图像传感, 红外探测, 光学传感

摘要

本发明提供了一种氧掺杂二硒化钯材料的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:先通过电子束蒸发镀膜仪,在真空腔体内利用电子束加热蒸发的方式使得Pd蒸发到倒置在上方的Si/SiO2衬底上,得到钯薄膜;然后通过化学气相沉积,对钯薄膜进行硒化反应,得到二硒化钯薄膜;最后对二硒化钯薄膜进行O2plasma处理,即得所述的氧掺杂二硒化钯材料。本发明通过O2plasma注入的方式对PdSe2进行O原子掺杂,进而实现对PdSe2性能的调控;通过对O掺杂量的调控,实现基于PdSe2的场效应晶体管转移特性发生p型转变,并且这种变化具有稳定性。

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