发明专利 已授权

基于二硒化钯二硒化钨异质结的光探测器的制备方法

📄 申请号:CN202311461470.3 📄 发布日:2026/11/05

著录项目信息

申请日
2023-11-06
公开号
CN117855322B
公开日
2024-06-11
申请人
济南大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光通信, 光电传感, 图像传感, 光谱检测, 环境监测

摘要

本发明公开了基于二硒化钯二硒化钨异质结的光探测器的制备方法,具体涉及光探测器技术领域,该制备方法的步骤包括:采用Si/SiO2作为材料生长的衬底并处理衬底,在Si/SiO2衬底上制备Pd薄膜,对得到的Pd薄膜进行硒化处理制备PdSe2薄膜,将Si/SiO2衬底用WO2.9溶液预埋,再进行硒化处理,制备大晶畴的WSe2,将制备的WSe2利用旋涂PMMA辅助法从Si/SiO2衬底上剥离。本发明将构建基于PdSe2/WSe2垂直范德华异质结器件的光电响应时间与本征PdSe2器件进行比较,响应速度得到极大提升,且在光电探测应用上具有优良特性。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图2
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