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发明专利
已授权
一种集成自偏置PMOS的抗短路SJ-LIGBT器件
📄 申请号:CN202310562730.X
📄 发布日:2026/08/27
著录项目信息
申请日
2023-05-18
公开号
CN116344605A
公开日
2023-06-27
申请人
重庆邮电大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L29_739
IPC 分类号
H01L29_739
,
H01L29_06
,
技术画像
所属领域
功率半导体器件
功率半导体器件
横向绝缘栅双极晶体管
半导体器件结构
应用场景
功率集成电路, 电源管理, 电机驱动, 光伏逆变器, 新能源汽车
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摘要
本发明涉及一种集成自偏置PMOS的抗短路SJ‑LIGBT器件,属于半导体技术领域。该器件集成的自偏置PMOS由P‑body区、N‑CS区、P‑shield区以及PMOS栅氧化层组成,其中P‑shield区作为源极,P‑body区作为漏极,N‑CS区作为衬底。其中自偏置PMOS的栅极和漏极通过金属电极短接在一起从而实现了自偏置功能,栅氧化层与普通NMOS的栅氧化层处于同一平面无需额外制造工艺,便于集成。本发明关断损耗相比传统SJ‑LIGBT器件降低了24%,大幅改善了器件的关断损耗与通态压降之间的折中关系;同时本发明的抗短路性能优异,在外加短路电压为150V时,器件短路工作时间为14.8μs。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种具有低电阻与密勒电容的新型非对称沟槽SiC MOSFET器件
当前第 / 件
一种集成辅助耗尽栅的低功耗RC-IGBT器件
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