发明专利 已授权

一种抗紫外线辐射的YAG基透明陶瓷及其制备方法

📄 申请号:CN202110442469.0 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2021-04-23
公开号
CN113213909B
公开日
2022-11-29
申请人
江苏师范大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

激光器, 光学窗口, 紫外光学组件, 航空航天光学系统, 高功率激光系统

摘要

一种抗紫外线辐射的YAG基透明陶瓷,其分子式为Lix:Y3‑xAl5O12,其中x为Li+掺杂Y3+位的摩尔百分数,0.0042≤x≤0.0085。制备方法为:以Li2O、Y2O3和Al2O3为原料粉体,以无水乙醇为球磨介质,将准确称量的原料粉体及烧结助剂置于球磨罐内球磨8~16h,再将球磨后的粉体干燥后过筛,并置于马弗炉中煅烧;将煅烧后的粉体进行干压成型后,再进行冷等静压成型得到致密陶瓷素坯;将所得到的陶瓷素坯进行高压低温热压烧结,冷却到室温后再进行双面抛光处理,得到抗紫外线辐射的YAG基透明陶瓷。该陶瓷能够有效改善透明陶瓷的抗紫外线辐射性能,在γ射线照射后能始终保持较高的透过率。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图2
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