发明专利 已授权

全平面太赫兹复合应变Si/SiGe异质结双极晶体管及制备方法

📄 申请号:CN201810437561.6 📄 发布日:2026/05/07

著录项目信息

申请日
2018-05-09
公开号
CN108630748B
公开日
2020-05-29
申请人
燕山大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

太赫兹通信, 射频前端, 高速集成电路, 无线通信, 雷达探测

摘要

一种全平面太赫兹复合应变Si/SiGe异质结双极晶体管及制备方法,在N‑Si衬底两端形成STI隔离区;掺杂As形成N+亚集电区;在衬底表面淀积绝缘介质;外延一层本征单晶硅层作为集电区;非选择性外延Si缓冲层、掺C的Si1‑xGex层、Si帽层;在Si帽层上面依次淀积氧化层‑氮化层‑氧化层;选择性注入集电极;生长发射极内侧墙;淀积多晶硅发射极;生长发射极外侧墙;在非选择性外延层结构的两端采用嵌入式SiGe技术选择性外延Si1‑yGey层;采用发射极作掩膜淀积抬升的多晶硅非本征基区;刻蚀以定义基极和发射极的位置;淀积硅化物形成发射极、基极和集电极接触。本发明提高载流子的迁移率,提高器件工作速和集电区击穿电压,降低有源区的沟道宽度,缩小器件横向尺寸,抑制电流集边效应。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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