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发明专利
已授权
全平面太赫兹复合应变Si/SiGe异质结双极晶体管及制备方法
📄 申请号:CN201810437561.6
📄 发布日:2026/05/07
著录项目信息
申请日
2018-05-09
公开号
CN108630748B
公开日
2020-05-29
申请人
燕山大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L29_737
IPC 分类号
H01L29_737
,
H01L29_06
,
H01L21_331
,
技术画像
所属领域
异质结双极晶体管
异质结双极晶体管
SiGe半导体材料
太赫兹器件
应用场景
太赫兹通信, 射频前端, 高速集成电路, 无线通信, 雷达探测
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摘要
一种全平面太赫兹复合应变Si/SiGe异质结双极晶体管及制备方法,在N‑Si衬底两端形成STI隔离区;掺杂As形成N+亚集电区;在衬底表面淀积绝缘介质;外延一层本征单晶硅层作为集电区;非选择性外延Si缓冲层、掺C的Si1‑xGex层、Si帽层;在Si帽层上面依次淀积氧化层‑氮化层‑氧化层;选择性注入集电极;生长发射极内侧墙;淀积多晶硅发射极;生长发射极外侧墙;在非选择性外延层结构的两端采用嵌入式SiGe技术选择性外延Si1‑yGey层;采用发射极作掩膜淀积抬升的多晶硅非本征基区;刻蚀以定义基极和发射极的位置;淀积硅化物形成发射极、基极和集电极接触。本发明提高载流子的迁移率,提高器件工作速和集电区击穿电压,降低有源区的沟道宽度,缩小器件横向尺寸,抑制电流集边效应。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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📋 交易方式:
委托待转让
📌 交易状态:
在售
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📋 项目申报:
未申报
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权属尽调
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