发明专利 已授权

基于非晶Ga2O3薄膜的日盲紫外探测器及其制备方法

📄 申请号:CN202210291433.1 📄 发布日:2026/08/10

著录项目信息

申请日
2022-03-23
公开号
CN114725234B
公开日
2024-03-22
申请人
电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

所属领域

应用场景

紫外通信, 火焰探测, 导弹预警, 环境监测, 电力设备放电检测

摘要

本发明属于深紫外探测领域,涉及日盲紫外探测器,具体提供一种基于非晶Ga2O3薄膜的日盲紫外探测器及其制备方法。本发明采用叉指电极设置于衬底上、非晶Ga2O3薄膜层直接覆盖衬底与电极上的新型结构,相比于非晶Ga2O3薄膜层设置于衬底上、叉指电极设置于非晶Ga2O3薄膜层上的现有结构,本发明能够消除器件后制作过程中a‑Ga2O3薄膜污染的可能性,改善了材料的界面态,最大程度降低了界面处产生缺陷从而影响器件性能;并且维持了较好的表面形貌,避免光刻胶对材料光学性能产生不利影响;同时,反式结构有利于电荷的短距离传输,避免电荷在传输过程中造成的损耗,提升了器件的响应时间。综上,本发明的提供了一种兼具高响应度与快速响应时间的非晶Ga2O3日盲紫外探测器。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20240322
✅ 授权
20220726
?? 实质审查的生效 :
20220708
📄 公开

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