发明专利 已授权

一种低介低损Ba-Si-B-M基LTCC材料及其制备方法

📄 申请号:CN202210026261.5 📄 发布日:2026/08/10

著录项目信息

申请日
2022-01-11
公开号
CN114409389B
公开日
2022-11-04
申请人
电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

5G通信设备, 电子封装基板, 微波射频器件, 高频通信模块, LTCC基板

摘要

本发明属于电子信息陶瓷及其制造领域,具体涉及一种低介低损Ba‑Si‑B‑M基LTCC材料及其制备方法。本发明充分利用了复杂化学键理论由于Si4+离子极化率低和Si‑O键的共价键性高,所以Si‑O键的晶格能高这一特性,通过调整Ba‑Si基陶瓷原料配方,采用固相法,在850℃~950℃的低温下烧结成型致密的Ba‑Si‑B‑M基微波陶瓷材料。在烧结过程中形成低共熔化合物,从而推动晶粒重排,并且随着烧结的进行析出BaSi2O5相的陶瓷;并且没有二次相,确保了陶瓷材料的介电性能和机械性能优异,具有高Q×f值,6~7.5的低介电常数,介电损耗低至6.13×10‑4,可在LTCC中推广应用。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20221104
✅ 授权
20220520
?? 实质审查的生效 :
20220429
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:14 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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