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发明专利
已授权
一种低功耗绝缘体上硅横向绝缘栅双极型晶体管
📄 申请号:CN201910185250.X
📄 发布日:2025/12/10
著录项目信息
申请日
2019-03-12
公开号
CN109888006B
公开日
2021-08-20
申请人
电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L29_739
IPC 分类号
H01L29_739
,
H01L29_06
,
技术画像
所属领域
绝缘体上硅
绝缘体上硅
横向绝缘栅双极型晶体管
功率半导体器件
应用场景
电源管理, 新能源汽车, 工业自动化, 电力电子装置, 消费电子
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摘要
本发明涉及功率半导体技术,特别涉及一种低功耗绝缘体上硅横向绝缘栅双极型晶体管。本发明对传统横向绝缘栅双极型晶体管的阴极区进行了改造,将器件分为MOS区和传统LIGBT结构区,MOS区分为第一NMOS区和第二MOS区,第一NMOS区和第二MOS区共用一个P+源极短路区。传统LIGBT结构区的栅极与第一NMOS的栅极通过金属互联作为本发明器件栅极,第一NMOS的N+漏区通过金属互联与传统LIGBT的N+源区连接,传统LIGBT的P+源区通过金属互联与第二N型MOS的栅极和漏极相连,传统LIGBT的N+源区通过金属互联与第一N型MOS的N+漏区相连,第一和第二NMOS的N+源区及共用的P+源极短路区通过金属短接作为本发明器件的阴极,传统LIGBT结构区的阳极作为本发明器件阳极。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20210820
✅ 授权
20190709
?? 实质审查的生效 :
20190614
📄 公开
一种低导通电阻绝缘体上硅横向绝缘栅双极型晶体管
当前第 / 件
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📌 交易状态:
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