发明专利 已授权

一种高耐压低漏电的Ga2O3肖特基势垒二极管

📄 申请号:CN202110409410.1 📄 发布日:2026/07/20

著录项目信息

申请日
2021-04-16
公开号
CN113130667B
公开日
2022-04-29
申请人
重庆理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

电力电子, 新能源发电, 电动汽车充电, 高频电源, 工业电源

摘要

本发明公开了一种高耐压低漏电的Ga2O3肖特基势垒二极管,包括位于底部的阴极电极,位于所述阴极电极上部的衬底,位于所述衬底上部的漂移层,其特征在于:在所述漂移层的背离衬底面设置有沟槽,所述沟槽具有底壁和侧壁,所述底壁与侧壁的转角处设置圆角;在所述沟槽表面覆盖有随形的Al2O3介电层,在所述介电层表面覆盖有随形的低功函数接触层,在所述漂移层的背离衬底的面上设置有高功函数肖特基接触;其中,所述衬底材料为Si重掺杂的Ga2O3,所述漂移层材料为Si轻掺杂的Ga2O3。采用本发明的Ga2O3肖特基势垒二极管,能够获得3.4kV高击穿电压,低至5.4mΩ.cm2导通电阻和小于1pA/cm2极低泄漏电流的器件。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20220429
✅ 授权
20210803
?? 实质审查的生效 :
20210716
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:26 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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