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发明专利
已授权
一种高耐压低漏电的Ga2O3肖特基势垒二极管
📄 申请号:CN202110409410.1
📄 发布日:2026/07/20
著录项目信息
申请日
2021-04-16
公开号
CN113130667B
公开日
2022-04-29
申请人
重庆理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L29_872
IPC 分类号
H01L29_872
,
H01L29_51
,
H01L29_49
,
H01L29_423
,
H01L21_34
,
技术画像
所属领域
宽禁带半导体
宽禁带半导体
功率半导体器件
肖特基二极管
应用场景
电力电子, 新能源发电, 电动汽车充电, 高频电源, 工业电源
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摘要
本发明公开了一种高耐压低漏电的Ga2O3肖特基势垒二极管,包括位于底部的阴极电极,位于所述阴极电极上部的衬底,位于所述衬底上部的漂移层,其特征在于:在所述漂移层的背离衬底面设置有沟槽,所述沟槽具有底壁和侧壁,所述底壁与侧壁的转角处设置圆角;在所述沟槽表面覆盖有随形的Al2O3介电层,在所述介电层表面覆盖有随形的低功函数接触层,在所述漂移层的背离衬底的面上设置有高功函数肖特基接触;其中,所述衬底材料为Si重掺杂的Ga2O3,所述漂移层材料为Si轻掺杂的Ga2O3。采用本发明的Ga2O3肖特基势垒二极管,能够获得3.4kV高击穿电压,低至5.4mΩ.cm2导通电阻和小于1pA/cm2极低泄漏电流的器件。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20220429
✅ 授权
20210803
?? 实质审查的生效 :
20210716
📄 公开
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2021104094101 · 重庆理工大学
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