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发明专利
已授权
二维硫化铼光电探测器及制备方法
📄 申请号:CN202111051057.0
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2021-09-08
公开号
CN113937175B
公开日
2024-06-11
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H01L31_032
IPC 分类号
H01L31_032
,
H01L31_102
,
H01L31_18
,
技术画像
所属领域
二维材料
二维材料
光电探测器
光电子器件
应用场景
光通信, 光电传感, 成像技术, 激光雷达, 环境监测
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摘要
本发明公开了一种二维硫化铼光电探测器及制备方法,至少包括衬底层以及在所述衬底层形成的绝缘层,所述绝缘层上设置二维硫化铼层,并设置与所述二维硫化铼层相连接的电极作为源极和漏极,所述二维硫化铼层上通过掺杂形成四氰二甲基对苯醌层。本发明通过大分子F4‑TCNQ对ReS2进行表面修饰调控其性能,得到多种性能组合的ReS2光电探测器,包括高响应度和高灵敏的ReS2光电探测器。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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