发明专利 已授权

外延晶片、外延晶片制造方法、二极管及整流器

📄 申请号:CN201910849997.0 📄 发布日:2026/07/28

著录项目信息

申请日
2019-09-02
申请人
华南师范大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

电力电子, 电源转换, 整流器, 半导体器件, 电子设备

摘要

本申请提供一种外延晶片、外延晶片制造方法、二极管及整流器,其中,外延晶片中包括Si基底层;形成于所述Si基底层的绝缘层;形成于所述绝缘层远离所述Si基底层的一面的氮化物半导体层;其中,所述绝缘层的厚度构造成在正向偏置电压下,该绝缘层可以允许电子和空穴通过量子隧穿从该绝缘层一侧穿至另一侧与相应的空穴和电子复合,从而允许正向电流流动。在反向偏向下,该绝缘层可以阻碍自由电子和空穴的形成,从而阻塞反向电流。如此,使外延晶片具有了仅允许电流单向通过的特性,可以被制作成如二极管等于整流器件。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:96 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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