发明专利 已授权

一种消除负阻效应的RC-IGBT器件结构

📄 申请号:CN202010023986.X 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2020-01-09
公开号
CN111211167B
公开日
2022-04-01
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

电力电子, 新能源发电, 电动汽车, 轨道交通, 工业控制

摘要

本发明提供了一种消除负阻效应的RC‑IGBT器件。该RC‑IGBT器件与传统器件相比,在N型集电区和P型集电区上方有混合交替排列的N型和P+型缓冲层,且最靠近N型集电区的P+柱边缘超过N型缓冲层。由于上述混合交替排列N型和P型的缓冲层对场截止区的多区段的隔离作用,电子或空穴需要爬过多个P型区域,增长了载流子运动路径,从而增大了RC‑IGBT器件在导通初期N型集电区上方电势差,使得该PN结更容易开启,器件更容易从单极导通转换为双极导通,进而抑制了RC‑IGBT器件在导通初期所产生的Snapback效应。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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