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发明专利
已授权
基于冷烧结技术制备的高透光率透明陶瓷及其制备方法
📄 申请号:CN202110392390.1
📄 发布日:2026/07/23
著录项目信息
申请日
2021-04-13
公开号
CN113149652B
公开日
2022-10-25
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
C04B35_553
IPC 分类号
C04B35_553
,
C04B35_622
,
C04B35_645
,
技术画像
所属领域
冷烧结技术
冷烧结技术
透明陶瓷
先进陶瓷材料
应用场景
光学窗口, 激光器, 照明器件, 透明装甲, 电子器件
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摘要
本发明公开了一种基于冷烧结技术制备的高透光率透明陶瓷及其制备方法,本发明方法包括如下步骤:将LiF原料与不高于50wt%的去离子水进行混合,后将固液混合粉末置于模具中并放入热压机中进行冷烧结,将所得的陶瓷生坯置入80‑200℃烘箱中烘干至恒重,获得具有高致密度和透明度的陶瓷。与传统的透明陶瓷的制备方法相比,本发明所提供的方法操作简便,所需的温度仅为200℃以内,大大降低了能源消耗和生产成本。同时本发明所得透明LiF陶瓷的光学性能优异,可广泛应用于激光、红外、新型光源、原子能工业等领域。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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当前第 / 件
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