发明专利 已授权

具有高阈值电压的SiCMOSFET及制造方法

📄 申请号:CN202111492929.7 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2021-12-08
申请人
西安理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

新能源汽车, 光伏逆变器, 工业电源, 充电桩, 智能电网

摘要

本发明公开了一种具有高阈值电压的SiC MOSFET,在衬底上表面依次外延有耐压外延层、电流扩展外延层;电流扩展外延层上表面间隔嵌有多个第一p阱区,每个第一p阱区中包围有一个第二p阱区;每个第三p阱区对应遮蔽一个第二p阱区下表面;每个第二p阱区上表面嵌有一个n+源区;相邻第一p阱区之间的电流扩展外延层上表面,依次间隔嵌有p+屏蔽区和一个p+发射区;还包括栅氧化层、多晶硅栅及钝化介质层;另外还包括源极/漏极欧姆接触金属、隔离介质层、源极/栅极/漏极PAD金属。本发明还公开了上述SiC MOSFET的制造方法。本发明SiC MOSFET,阈值电压更高,导通特性与阻断特性良好。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20240202
?? 专利权的转移 :
20231229
?? 专利权的转移 :
20230203
✅ 授权
20220520
?? 实质审查的生效 :
20220429
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:63 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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