实用新型 已授权

一种碳化硅MOS

📄 申请号:CN202223304446.2 📄 发布日:2026/05/14

著录项目信息

申请日
2022-12-10
公开号
CN218918896U
公开日
2023-04-25
申请人
上海亥芯电子科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

电动汽车, 光伏逆变器, 充电桩, 工业电源, 储能系统

摘要

本实用新型涉及半导体技术领域,具体公开了一种碳化硅MOS,包括N型漂移层,所述N型漂移层底部连接绝缘层,所述N型漂移层顶部设有源极和漏极,所述源极处设有P+基底和N+区,所述漏极处设有N+区,所述N型漂移层顶部还设有栅极;本实用新型采用水平结构,制成简化,N型漂移层只要用离子布置就可以达成,减少外延层的使用,N+区和N型漂移层可组成U型结构,只要增加源极至漏极的距离,就可以增加崩溃电压,源极至漏极的的导通电阻容易调整,通道接近碳化硅MOS表面。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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议价
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