发明专利 已授权

一种氮化镓横向MIS-肖特基混合阳极二极管

📄 申请号:CN201810678927.9 📄 发布日:2025/12/10

著录项目信息

申请日
2018-06-27
公开号
CN108831932B
公开日
2021-07-02
申请人
电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

电力电子, 功率转换, 高频开关电源, 新能源汽车电驱, 5G基站射频

摘要

本发明属于半导体功率器件领域,特别涉及一种氮化镓横向MIS‑肖特基混合阳极二极管。本发明公开了一种基于具有变铝组分势垒层(Al0~0.50GaN)异质结的混合阳极二极管,具体结构是在GaN层上方生长一层薄的变铝组分Al0~0.50GaN层作为势垒层,AlGaN势垒层中Al摩尔分量从0%到50%渐变。薄的变铝组分AlGaN层能够减小肖特基阳极电极到二维电子气的距离,增加沟道二维电子气浓度,并消除AlGaN/GaN异质结处导带差,进而能够降低所提出器件的开启电压和导通压降。同时阳极部分的金属‑绝缘体‑半导体结构(MIS)能够有效降低器件反向漏电流,增加器件反向耐压。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图2
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