发明专利已授权

一种利用反应离子刻蚀制备高效陷光绒面的方法

📄 申请号：CN201810660527.5 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2018-06-25

公开号

CN109037369B

公开日

2020-11-20

申请人

江苏理工学院

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01L31_0236

IPC 分类号

H01L31_0236 , H01L31_18 , C30B33_12 ,

技术画像

所属领域

光伏电池制造工艺光伏电池制造工艺反应离子刻蚀表面微纳加工

应用场景

高效太阳能电池制造, 光伏发电, 光电器件, 晶硅太阳能电池

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摘要

本发明提供一种利用反应离子刻蚀制备高效陷光绒面的方法，所述制备方法包括：硅片表面预处理步骤，将硅片进行表面腐蚀预处理，得到处理后的硅片；晶种生长步骤，将晶种溶液加入生长溶液中，对混合液进行搅拌，再静置，得到金纳米颗粒溶液；制备金纳米颗粒掩模，将金纳米颗粒溶液旋涂至处理后的硅片表面，干燥后，金纳米颗粒经自组装平铺在处理后的硅片表面，得到具有金纳米颗粒掩模的硅片；反应离子刻蚀，将具有金纳米颗粒掩模的硅片放置在刻蚀气体气氛中进行反应离子刻蚀，再经超声水洗，得到具有锯齿状结构的高效绒光面。所述制备方法操作简单的，成本较低，适合大规模生产；制备得到的陷光绒面性能较好。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20201120

✅ 授权

20190111

?? 实质审查的生效：

X型双锚固染料敏化剂及其制备方法和应用

当前第 / 件

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议价

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