发明专利已授权

一种可见光光敏电阻及其制作方法

📄 申请号：CN201510647858.1 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2015-10-09

公开号

CN105206700B

公开日

2017-03-22

申请人

南阳师范学院

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H01L31_08

IPC 分类号

H01L31_08 , H01L31_0328 , H01L31_18 ,

技术画像

所属领域

光敏电阻光电探测器件半导体器件光敏材料光敏电阻

应用场景

光控开关, 相机自动曝光, 光电传感器, 安防监控, 消费电子

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摘要

本发明公开了一种可见光光敏电阻及其制作方法，采用稀土氯化物取代CuCl2，通过在光敏层材料CdS、CdSe和CdCl2中添加重量百分比为0.1％的稀土氯化物，稀土氯化物为氯化钬、氯化钕、氯化钆、氯化镝和氯化钐中的一种或者为两种或两种以上的混合物，并调整CdS、CdSe和CdCl2三种材料的配比，稀土氯化物含量很小，不会影响可见光光敏电阻的材料成本，且稀土氯化物和CdS、CdSe和CdCl2三种材料组合在一起可以增加可见光光敏电阻的暗电阻，减小可见光光敏电阻的亮电阻；优点是可以提高可见光光敏电阻的灵敏度，并且稀土氯化物稳定性较高，可见光光敏电阻在老化工艺中不容易产生变化，不会导致可见光光敏电阻其它性能参数降低，可见光光敏电阻老化工艺中稳定性较高，废品率大幅降低。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种喹啉?2甲酸酯基衍生物的合成方法

当前第 / 件

固体颗粒磨削液复合加工工艺与装置

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