发明专利 已授权

一种4H-SiC沟槽型绝缘栅双极型晶体管

📄 申请号:CN201610335266.0 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2016-05-19
公开号
CN105845718B
公开日
2019-11-05
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

新能源汽车, 光伏逆变器, 智能电网, 轨道交通牵引, 工业变频驱动

摘要

本发明公开了一种4H‑SiC沟槽型绝缘栅双极型晶体管,包括依次层叠设置的P型集电极区,N型漂移区,N型的电流增强层,P型基体区,P型体接触区,N型发射区、发射极金属和集电极金属;还包括第一沟槽与第二沟槽,所述第一沟槽与第二沟槽自器件的上表面穿透P型基体区终止在N型漂移区内;所述第一沟槽内填充第一氧化层和第一多晶硅,所述第二沟槽内的第二多晶硅底部被重掺杂的P型区与N型漂移区隔开,侧面被第二氧化层与P型体接触区、P型基体区及N型漂移区隔开;所述的重掺杂屏蔽区通过第二多晶硅与发射极连接。本发明减小了4H‑SiC沟槽IGBT的栅氧底部拐角的电场强度,达到降低器件的正向导通压降以减小器件损耗的目的。

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图2
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