实用新型 已授权

一种具有侧壁场板的凸型栅增强型GaN基HEMT器件结构

📄 申请号:CN202122375051.0 📄 发布日:2026/05/19

著录项目信息

申请日
2021-09-29
公开号
CN215988772U
公开日
2022-03-08
申请人
天津赛米卡尔科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

5G通信, 射频功率放大器, 电源转换, 新能源汽车, 雷达系统

摘要

本申请提供一种具有侧壁场板的凸型栅增强型GaN基HEMT器件,包括衬底,衬底上依次设有缓冲层、沟道层,沟道层为凸台型,凸台的顶部和下部平面上设有势垒层,凸台的外侧和势垒层的上部设有栅介质层,凸台顶部的栅介质层和凸台外侧的栅介质层的外侧设有栅电极,凸台下部平面两侧设有源漏电极与势垒层相连;本实用新型利用沟道层材料体系的非极性面实现2DEG沟道的阻断,实现了常关型操作,且器件阈值电压具有较好的重复性和均匀性;采用半绝缘GaN作为沟道层,当HEMT处于关断状态时,漏电流极小且可承受较大的电压而不击穿;本实用新型可操作性强,成本低,工艺简单可靠,适于工业上的推广使用。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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